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首頁 > 產品中心 > HITACHI日立 > 日立掃描離子電導顯微鏡 > Ethos NX5000高性能FIB-SEM系統

高性能FIB-SEM系統

簡要描述:高性能FIB-SEM系統高性能與高靈活性兼備
“Ethos"采用日立高新的核心技術--的高亮度冷場發射電子槍及新研發的電磁復合透鏡,不但可以在低加速電壓下實現高分辨觀察,還可以在FIB加工時實現實時觀察。

  • 產品型號:Ethos NX5000
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2022-03-07
  • 訪  問  量:77
產品詳情

高性能FIB-SEM系統高性能與高靈活性兼備

“Ethos"采用日立高新的核心技術--的高亮度冷場發射電子槍及新研發的電磁復合透鏡,不但可以在低加速電壓下實現高分辨觀察,還可以在FIB加工時實現實時觀察。
SEM鏡筒內標配3個探測器,可同時觀察到二次電子信號的形貌像以及背散射電子信號的成分襯度像;可非常方便的幫助FIB找尋到納米尺度的目標物,對其觀察以及加工分析。
另外,全新設計的超大樣品倉設置了多個附件接口,可安裝EDS*1和EBSD*2等各種分析儀器。而且NX5000標配超大防振樣品臺,可全面加工并觀察最大直徑為150mm的樣品。
因此,它不僅可以用于半導體器件的檢測,而且還可以用于從生物到鋼鐵磁性材料等各種樣品的綜合分析。

高性能FIB-SEM系統核心理念

1. 搭載兩種透鏡模式的高性能SEM鏡筒

  • HR模式下可實現高分辨觀察(半內透鏡)

  • FF模式下可實現高精度加工終點檢測(Timesharing Mode)

2. 高通量加工

  • 可通過高電流密度FIB實現快速加工(最大束流100nA)

  • 用戶可根據自身需求設定加工步驟

3. Micro Sampling System*3

  • 運用ACE技術(加工位置調整)抑制Curtaining效應

  • 控制離子束的入射角度,制備厚度均勻的薄膜樣品

4. 實現低損傷加工的Triple Beam System*3

  • 采用低加速(Ar/Xe)離子束,實現低損傷加工

  • 去除鎵污染

5. 樣品倉與樣品臺適用于各種樣品分析

  • 多接口樣品倉(大小接口)

  • 超大防振樣品臺(150 mm□)

  • *3

  • 選配

高性能FIB-SEM系統高性能SEM鏡筒

Ethos搭載的SEM配有兩種透鏡模式。HR模式可將樣品置于透鏡磁場之中,實現樣品的高分辨觀察。FF模式可在最短10nsec內切換FIB照射與SEM觀察。用戶可在高速幀頻下觀察SEM圖像的同時,進行FIB加工,因此,可輕松判斷截面的加工終點。NX5000采用電磁復合透鏡,即使在FF模式下也可保持高分辨觀察。

高分辨SEM觀察實例


Fin-FET 14 nm device


3D-NAND device

高性能FIB鏡筒

通過高電流密度FIB可實現快速加工、廣域加工、多處自動加工等


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